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G-25X型高精密单面光刻机

简介—— G—25X型精密光刻机主要技术指标一、主要用途 本设备是我公司针对各大专院校及科研单位对光刻机的使用特性专门研发的一种精

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G—25X型精密光刻机主要技术指标


一、主要用途

本设备是我公司针对各大专院校及科研单位对光刻机的使用特性专门研发的一种精密光刻机,它 主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件的研制和生产。

二、主要构成

主要由高精度对准工作台、双目分离视场CCD显微显示系统、曝光头、气动系统、真空管路系统、直联式真空泵、防震工作台和附件箱等组成。

三、主要功能特点 :

1.适用范围广:

适用于Φ100mm以下,厚度5mm以下的各种基片(包括非圆形基片)的对准曝光。

2.结构先进

具有半球式找平机构和可实现真空硬接触、软接触、微力接触的真空密着机构;具有真空掩膜版架、真空片吸盘。

3.操作简便

采用翻板方式取片、放片;按钮、按键方式操作,可实现真空 吸版、吸片、吸浮球、吸扫描锁等功能,操作、调试、维护、修理 都非常简便。

4.可靠性高

采用进口电磁阀、按钮、定时器;采用独特的气动系统、真空管路系统和精密的机械零件,使本机具有非常高的可靠性。

5.特设“碎片”处理功能

解决非圆形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分离不开所引起的版片无法对准的问题。

四、主要技术指标:

1、曝光头:采用蝇眼曝光头

2、曝光类型:单面

3、曝光面积:φ100mm

4、光束不平行度:≤6°

5、曝光不均匀性:≤±3%

6、掩模版尺寸:2.5″×2.5″、4″×4″、 5″×5″

7、基片尺寸:φ2″、φ3″、φ4″

8、基片厚度:≤5 mm

9、曝光强度:≥5mw/cm2

10、曝光分辨率:≤1.0μm

11、曝光模式:套刻曝光

12、对准精度:1μm

13、扫描范围:X:±40mm   Y:±35mm

14、对准范围:承片台相对于版运动为:

①x、y±5mm运动,放大比为400:1;

②Q转动为±5°;③Z轴运动≤4mm;

15、密着曝光方式:密着曝光可实现硬接触、软接触和微力接触曝光;

16、显微系统:双视场CCD系统;连续可调(物镜0.7~4.5倍连续可调);

计算机图像处理系统;

17、曝光灯功率:直流350W

18、曝光定时:0~999.9秒可调

19、电源:AC220V 50Hz 1kW

20、空气:P≥0.1MPa,耗气量0.2m3/小时;

21、真空度:-0.07MPa~-0.09MPa

22、外形尺寸:918×680×1450(L×W×H)mm

23、重量:~160kg

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